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ICP-MS樣品前處理的關(guān)鍵步驟有哪些,你知道嗎?

放大字體  縮小字體 發(fā)布日期:2023-11-21
核心提示: 電感耦合等離子體(ICP)樣品制備不充分或進(jìn)樣系統(tǒng)配置不當(dāng)可能產(chǎn)生負(fù)面影響,例如信號(hào)漂移、背景增加、檢出限不足或意外干
 電感耦合等離子體(ICP)樣品制備不充分或進(jìn)樣系統(tǒng)配置不當(dāng)可能產(chǎn)生負(fù)面影響,例如信號(hào)漂移、背景增加、檢出限不足或意外干擾。本文將重點(diǎn)介紹為元素分析創(chuàng)建樣品制備工作流程所需的關(guān)鍵步驟。
ICP-MS主要用于分析液態(tài)樣品。在大多數(shù)情況下,樣品必須(如可能)溶解在合適的稀釋劑中。雖然水性稀釋劑(如超純水或稀酸)通常更容易處理,但有機(jī)溶劑或可以處理某些活性藥物成分中的元素雜質(zhì)。如果樣品不能立即溶解,則需要使用加熱方式輔助,如熔融(如偏硼酸鋰)或微波消解都是常見的方式。然而,上述所有方法都具有共同的缺點(diǎn),如消化時(shí)間、試劑成本以及消解儀硬件要求等。此外,用于消解的試劑或樣品之間的坩堝或消解容器清潔不足可能會(huì)成為問(wèn)題。
無(wú)論使用哪種消解方式,透明且無(wú)顆粒的溶液都是消解的理想結(jié)果。但將消解液上機(jī)之前,重要的是要考慮一些參數(shù)。總溶解性固體(TDS)的量是通過(guò)將稱樣量除以消解后溶液的最終體積來(lái)計(jì)算的。TDS的最大工作范圍在ICP-OES和ICP-MS間是不同的,我們稍后介紹。消解殘余的酸或酸混合物濃度不僅會(huì)影響儀器性能,還會(huì)影響進(jìn)樣系統(tǒng)的配置。例如消解液中殘余高濃度的氫氟酸(HF),需要更換石英材質(zhì)進(jìn)樣組件以保證其惰性化。理想情況下,消解液中的殘余酸濃度應(yīng)低于5%(v/v)。
在某些情況下,固體樣品直接分析可以作為替代方法,例如導(dǎo)電樣品(金屬和半導(dǎo)體)、非導(dǎo)電樣品(礦物顆粒、紙張和塑料)和生物材料(組織切片)。使用直接聚焦在樣品表面的激光系統(tǒng),高強(qiáng)度光的短脈沖可以將固體樣品直接轉(zhuǎn)化為氣溶膠,將其輸送到ICP進(jìn)行分析。激光剝蝕(LA)無(wú)需使用危險(xiǎn)化學(xué)品即可對(duì)一系列固體材料進(jìn)行直接采樣,并將前處理污染的可能性降至最低。由于典型的小光斑尺寸約200μm,激光燒蝕被認(rèn)為是準(zhǔn)無(wú)損的,因此可以成為分析有價(jià)值樣品的替代方案。然而,當(dāng)使用LA-ICP-MS測(cè)定散裝材料中的濃度時(shí),樣品均勻性可能是一個(gè)問(wèn)題,因此需要仔細(xì)選擇樣品區(qū)域。另一方面,LA-ICP-MS 還可以獲得有關(guān)分析物在樣品中的橫向分布的信息,這有利于表征地質(zhì)或生物樣品。酸和容器的潔凈度
ICP-MS是用于分析痕量甚至超痕量元素雜質(zhì)的技術(shù),因此目標(biāo)分析物的背景必須盡可能低。否則,假陽(yáng)性結(jié)果和檢測(cè)限不足可能會(huì)導(dǎo)致常規(guī)實(shí)驗(yàn)室大量的后續(xù)工作。對(duì)于一些元素,例如稀土元素,環(huán)境中的天然豐度較低,因此在樣品制備過(guò)程中使用的水、酸或樣品瓶中可能不會(huì)發(fā)現(xiàn)背景污染。對(duì)于其他元素,尤其是堿、堿土和過(guò)渡族金屬,如鈉、鉀、鐵、銅或鋅,可能會(huì)從塑料器皿(如瓶和瓶蓋)中大量浸出。因此在不同批次或不同品牌之間進(jìn)行更換時(shí),強(qiáng)烈建議對(duì)樣品瓶純度進(jìn)行初步浸出測(cè)試。低純度酸也可能增加分析中元素背景。
通常用于元素分析的酸和其他試劑,如硝酸、鹽酸和過(guò)氧化氫等有不同的純度,但對(duì)于使用ICP-MS的超痕量分析,應(yīng)使用最高純度試劑。作為替代方案,可以使用亞沸蒸餾去純化低純度的酸,這是提升酸純度的一種經(jīng)濟(jì)有效的方法。另一個(gè)潛在的污染因素可能是用于制備稀釋劑溶液的水。強(qiáng)烈建議定期檢查微量元素,并定期維護(hù)純水系統(tǒng)(根據(jù)制造商的建議)。對(duì)于痕量元素分析,建議盡可能使用電阻率為18.2MΩ的水。選擇合適的酸
許多樣品前處理普遍使用微波消解儀,因?yàn)槲⒉ㄏ庥兄诜纸饫щy的基質(zhì)材料,使消解能夠在高溫和高壓下運(yùn)行。然而選擇合適的酸仍然至關(guān)重要,在許多情況下,有效的消解通常需要不同酸或氧化劑的組合。使用酸混合物還可以立即穩(wěn)定溶液中的某些元素。
硝酸(HNO3)通常用作元素分析的稀釋劑。過(guò)氧化氫(H2O2)可實(shí)現(xiàn)對(duì)大部分有機(jī)基質(zhì)(如食品、飼料)的有效分解。作為替代方案,高氯酸可用于增加酸混合物的氧化電位,但需格外小心,因?yàn)楦呗人崤c有機(jī)基質(zhì)會(huì)發(fā)生強(qiáng)烈而迅速的反應(yīng)。加入適量的鹽酸(HCl)有利于解鎖和穩(wěn)定某些無(wú)機(jī)材料。例如王水(鹽酸與硝酸以3:1的混合物)可有效溶解金屬材料。鹽酸還有助于穩(wěn)定消解樣品中的關(guān)鍵污染物,如汞和鉑族金屬。重要的是要確保HCl的濃度足夠高(2%甚至更高),以便最初形成的沉淀(HgCl或HgCl2)轉(zhuǎn)化為可溶性氯絡(luò)合物(HgCl42-)。
硫酸(H2SO4)對(duì)于在電熱板和某些類型的高壓消解系統(tǒng)中消化某些樣品類型是有益的,但這種酸絕不應(yīng)在微波與特氟龍容器一起使用,因?yàn)樘胤堅(jiān)诹蛩岱悬c(diǎn)的溫度下熔化。此外,硫酸在ICP-MS中會(huì)產(chǎn)生額外的硫基質(zhì)譜干擾,因此只有在沒有替代品時(shí)才會(huì)使用。
對(duì)于上述任何一種情況,在處理酸和其他危險(xiǎn)化學(xué)品時(shí)應(yīng)始終穿戴適當(dāng)?shù)膫(gè)人防護(hù)設(shè)備。有關(guān)正確的酸或酸混合物、稱樣量和加酸量以及升溫程序的詳細(xì)指導(dǎo),可以從實(shí)驗(yàn)室微波消解儀制造商處獲得。
巧妙稀釋樣品
TDS含量高的樣品會(huì)導(dǎo)致ICP-MS信號(hào)抑制和漂移。ICP-MS中TDS含量典型上限在0.2%~0.5%(m/v)間。ICP-MS前端的特殊附件,例如用氬氣稀釋,可以直接引入高TDS含量的溶液,濃度超過(guò)3%~4%,不過(guò)這種方式仍是稀釋,最終降低了靈敏度。這種附件的最大優(yōu)點(diǎn)是可以省去前處理中的手動(dòng)稀釋步驟,從而節(jié)省操作人員的時(shí)間,減少稀釋劑溶液產(chǎn)生的成本和浪費(fèi),防止污染并避免人為錯(cuò)誤。然而,由于稀釋氣會(huì)改變ICP條件,因此需要固定批處理中所有標(biāo)準(zhǔn)品和樣品的稀釋因子。對(duì)于包含不同樣品類型的批處理,這種有限的靈活性成為一個(gè)缺點(diǎn),因?yàn)閷⑾♂屢蜃釉O(shè)置為能夠測(cè)量較高基質(zhì)樣品時(shí),較低基質(zhì)樣品將被過(guò)度稀釋,從而導(dǎo)致方法檢測(cè)限(MDL)變差并降低分析這些樣品的準(zhǔn)確性。管理好背景
如前所述,意識(shí)到來(lái)自實(shí)驗(yàn)室設(shè)備和化學(xué)品(污染)或其他樣品(殘留或交叉污染)的潛在背景是非常重要的。前者只能通過(guò)嚴(yán)格測(cè)試所有設(shè)備和不同批次的化學(xué)品來(lái)識(shí)別,而后者需要在兩次運(yùn)行之間采取有效的清潔策略才能到位。對(duì)于分析前需要消解的樣品,應(yīng)對(duì)每批次樣品做方法空白,包括過(guò)程中使用的所有步驟和試劑,但不包括樣品。通過(guò)這種方式,可以識(shí)別消化步驟中的任何潛在污染,追溯其來(lái)源并盡可能糾正,然后再對(duì)潛在的偏差結(jié)果進(jìn)行故障排除甚至報(bào)告。識(shí)別質(zhì)譜干擾
通常由于樣品信息有限,因此無(wú)法立即識(shí)別是否是質(zhì)譜干擾。有時(shí)樣品中其它無(wú)需定量的基質(zhì)元素會(huì)導(dǎo)致一系列困難,這些困難往往是在分析樣品時(shí)才被識(shí)別出來(lái),一是基質(zhì)干擾物造成令人費(fèi)解的結(jié)果,二是后續(xù)樣品也可能受到殘留污染的影響。為了未知的樣品造成困惑之前識(shí)別出它們引起的此類潛在挑戰(zhàn),建議遵循以下幾個(gè)簡(jiǎn)單的步驟。
為了發(fā)現(xiàn)基質(zhì)元素或具有挑戰(zhàn)性的干擾物,運(yùn)行半定量掃描可以很好地表征高基質(zhì)元素或指示可能存在質(zhì)譜干擾。使用比平時(shí)稍高的稀釋倍數(shù)可以保護(hù)儀器免受持續(xù)污染。造成令人費(fèi)解的結(jié)果的往往是遇到非典型的質(zhì)譜干擾。例如雙電荷離子干擾。稀土元素釹(Nd)、釤(Sm)或釓(Gd)的雙電荷干擾會(huì)對(duì)砷 (150Nd2+和150Sm2+)和硒(156,160Gd2+)存在干擾,當(dāng)然ICP-MS/MS能夠可靠地消除這些干擾。雙電荷干擾也可能影響內(nèi)標(biāo)校正。例如,如果樣品中鉛含量較高,206Pb2+可能影響103Rh+。在這種情況下,干擾不會(huì)對(duì)樣品本身造成偏差,而是間接導(dǎo)致內(nèi)標(biāo)響應(yīng)的問(wèn)題。總結(jié)
對(duì)樣品制備方案中的所有步驟進(jìn)行批判性研究非常有必要,以確保成功、準(zhǔn)確和可靠地測(cè)定痕量元素。通過(guò)評(píng)估所有耗材和試劑,以及準(zhǔn)備適當(dāng)?shù)姆椒ǹ瞻缀唾|(zhì)量控制(QC)檢查,有助于識(shí)別和排除潛在的偏差結(jié)果。
編輯:songjiajie2010

 
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